첨단ICT융합대학지능형반도체공학과4단계 BK21 구성원
관심분야
- 반도체 소자 및 공정
- Semiconductor process and device
학력
- 2016.08 연세대학교 박사
경력
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대표논문
- [논문] 이상훈(제1), 권세훈, 노원태, 서승기, 이우재, 오일권*, 김형준*, Role of a surface hydroxyl group depending on growth temperature in atomic layer deposition of ternary oxides, JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, pp. 062402-062410 (10월, 2023)
- [논문] Asir Intisar Khan, Eric Pop, H.-S. Phillip Wong, Shenjun Qin, Stacey F. Bent, 이유진, 오일권*, Area-Selective Atomic Layer Deposition for Resistive Random-Access Memory Devices, ACS Applied Materials & Interfaces, pp. 43087-43093 (09월, 2023)
- [논문] Hayrensa Ablat(제1), 오일권, Nathaniel E. Richey, Solomon T. Oyakhire, Wenbo Zhang, William Huang, Yi Cui, Yufei Yang, Stacey F. Bent*, Molecular Layer Deposition of Organic−Inorganic Hafnium Oxynitride Hybrid Films for Electrochemical Applications, ACS Applied Energy Materials, pp. 5806-5816 (05월, 2023)
- [논문] 김강식, 김우희, 김형준, 이유진, 이종훈, 이한보람, 이홍섭, 오일권*, Dysprosium Incorporation for Phase Stabilization of Atomic-Layer-Deposited HfO2 Thin Films, CHEMISTRY OF MATERIALS, pp. 2312-2320 (03월, 2023)
- [논문] 최애림(제1), 김도희, 김세연, 류승욱, 서승기, 이우재, 오일권*, Reaction mechanism and film properties of the atomic layer deposition ofZrO2 thin films with a heteroleptic CpZr(N(CH3)2)3 precursor, APPLIED SURFACE SCIENCE, pp. 157104-157112 (01월, 2023)
연구활동
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- [논문] 최애림(제1), 이주헌, 임동현, 박경원, 오일권*, How to determine the optimized atomic layer deposition process? A reaction-informed platform using in-situ quadruple mass spectroscopy, APPLIED SURFACE SCIENCE, pp. 165604-165610 (12월, 2025)
- [논문] 김기욱(제1), Lingwei Zhang(제1), 이상호, 신헌범, 임영진, 김강, 오일권, 박상희, 안진호*, 전상훈*, Low-Temperature (450 ◦C) Crystallization of Al:HfO2 Ferroelectric Thin Films Enabled by Microwave Annealing Process, IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, pp. 1-6 (8월, 2025)
- [논문] 최애림(제1), 김도희, 류승욱, 김세연, 오일권*, Role of atomic arrangements in IGZO thin films for ultra thin thin-film-transistor devices, Journal of Alloys and Compounds, pp. 182317-182325 (7월, 2025)
특허 및 기타
- [특허] 최애림, 오일권, 원자층 증착 방법의 전구체 분할 주입 공정에서 전구체에 의한 표면 포화 시간의 도출 방법, 특허, (출원) (10-2026-0118905) (6월, 2026)
- [특허] 곽병하, 오일권, 수평적 도핑 ALD 극초박막 및 이의 제조방법, 특허, (출원) (19/466,687) (2월, 2026)
- [특허] 임동현, 오일권, 다성분 산화물 박막 형성 방법 및 이를 구현하기 위한 원자층 증착 장치, 특허, (출원) (10-2025-0213353) (12월, 2025)

